真空炉石墨配件的气氛控制
真空炉石墨配件的气氛控制惰性气体保护(如Ar、N2): 运用场景:真空度缺少时(如微正压工艺),避免石墨氧化。 控制方式:通过质量流量计(MFC)准确调度气体流量,保持压力安稳(如1~100Pa)。反应性气体控制(如C2H2、CH2用于碳堆积): 效果:修复石墨表面微裂纹或增强抗烧蚀性。 风险:过量碳氢化合物可能生成游离碳污染炉膛,需分配剩余气体分析仪(RGA)监控。
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