真空炉石墨发热元件的适用场景
半导体工业：单晶硅 / 碳化硅衬底的高温退火炉、离子注入机加热系统，确保温度稳定性（±1℃），避免杂质污染；
航空航天资料处理：高温合金、陶瓷基复合资料的烧结炉，支撑 2000℃以上超高温工艺，进步资料致密度；
新能源资料制备：锂电池正极资料的煅烧炉、燃料电池催化剂的高温恢复炉，习惯氢气等恢复性气氛；
高温试验设备：高校、研究所的资料功能检验炉、热模仿试验机，可精准控制升温曲线与保温时刻；
贵金属熔炼：黄金、铂金的真空熔炼炉，发热体不与贵金属反响，确保金属纯度达 99.999% 以上。
想要了解更多真空炉石墨发热元件的内容，可联系从事真空炉石墨发热元件多年，产品经验丰富的滑小姐：13500098659。
